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“林总，我们已经进行了多次实际测试。这个新镜头在100纳米尺度下的光刻精度已经非常稳定了。它能够清晰地刻出复杂的电路结构，而且在不同的芯片材料上都表现出了良好的适应性。”姜老自豪地说道。
林宇心中的一块大石头落了地：“姜老，这真是个好消息。那EUV光源的稳定性问题呢？上次您提到这个是一个关键的挑战。”
姜老的表情变得严肃起来：“林总，EUV光源的稳定性我们也有了很大的改善。你还记得上次我们调整了光源的激发频率和能量输入方式吗？在那之后，我们又对光源的内部结构进行了优化。”
姜老带着林宇来到一个单独的房间，里面摆放着一个巨大的EUV光源装置。装置周围布满了各种监测仪器，数据在屏幕上不断跳动。
“我们改进了EUV光源的等离子体产生机制，通过精确控制电子的注入和磁场的约束，使得等离子体的稳定性大大提高。现在，EUV光源的输出功率波动已经控制在一个非常小的范围内，基本能够满足长时间光刻的需求。”姜老详细地介绍着。
林宇仔细观察着仪器上的数据，脸上露出了满意的笑容：“姜老，您和您的团队真是太厉害了。这对我们公司来说是一个巨大的突破。”
姜老摆摆手：“林总，先别高兴得太早。虽然我们在这些关键部件上取得了进展，但整个光刻机系统还有一些问题需要解决。”
林宇心中一紧：“姜老，还有什么问题呢？”
