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随着光刻机控制系统开发的不断推进，天宇科技迎来了新的挑战与机遇。这一天，公司上下弥漫着紧张而专注的氛围，每个人都在为了实现技术突破而努力奋斗。
清晨的阳光透过窗户洒在林宇的办公室里，他早早地来到公司，坐在办公桌前，仔细审阅着关于光刻机控制系统的最新报告。报告中详细记录了前一阶段所取得的成果以及目前仍存在的问题，林宇的眉头微微皱起，思考着下一步的行动计划。
林宇决定召集专家教授团队、姜老的光刻机研发团队以及技术部的成员再次开会，共同商讨如何进一步优化控制系统以及进行全面的模拟测试。会议室里，众人齐聚一堂，气氛严肃而认真。
林宇首先发言：“各位同事，目前我们在光刻机控制系统的开发上已经取得了一定的进展，但我们不能满足于此。现在我们需要集中精力进行系统优化，并开展全面的模拟测试，确保这个系统在实际应用中能够稳定、高效地运行。”
李教授代表专家教授团队发言：“林总，我们在过去的一段时间里对数据处理模块进行了分布式计算的优化，目前来看效果还不错。但是我们发现，在长时间运行的情况下，仍然存在一些小概率的计算错误。我们正在进一步分析原因，可能需要对算法进行更加精细的调整。”
姜老接着说：“我们在硬件方面也进行了一些优化，特别是对信号传输的稳定性做了进一步的提升。但是在与控制系统的联合测试中，我们发现还有一些参数的调整需要更加精确。”
技术部主管赵刚补充道：“我们技术部已经搭建好了模拟测试的环境，但是在测试过程中发现，不同的测试场景下，系统的表现存在一定的差异。我们需要进一步丰富测试用例，确保系统能够适应各种复杂的实际情况。”
林宇认真听取了大家的发言，然后说：“大家提出的问题都非常关键。我们要从系统的整体性能出发，进行全面的优化。首先，专家教授团队要继续深入分析数据处理模块的计算错误问题，尽快找到解决方案。姜老的团队要和专家教授团队紧密配合，对硬件参数进行更加精确的调整，确保与控制系统的完美对接。技术部要加大模拟测试的力度，丰富测试用例，尽可能地发现潜在的问题。”
